В Зеленограде разработали установку для производства чипов с нормами Pentium 4

Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) разработал электронно-лучевой литограф для производства чипов с нормами 150 нм, используемых в эпоху Pentium 4. По данным из документов, центр ищет транспорт для перемещения опытного образца установки на расстояние 2 тыс. км от Зеленограда. Испытания двух таких образцов уже начались и продлятся около четырех месяцев.

Электронно-лучевая литография (ЭЛЛ) предназначена для создания фотошаблонов и нанесения рисунка на подложки без масок. Это позволяет адаптировать рисунок для научных разработок и прототипирования без создания дорогих фотошаблонов. Однако данная технология не подходит для массового производства из-за медленной работы.

По мнению специалистов, такие литографы полезны для производства специализированных чипов, например, для космической и оборонной промышленности, где создание фотошаблонов для каждого заказа невыгодно. Российская полупроводниковая отрасль сталкивается с нехваткой инженерных кадров и компонентов для технологий меньше 65 нм. Также отсутствует национальная программа по перепроектированию оборудования.

ЗНТЦ ранее представил литограф с разрешением 350 нм, который был передан компании «Отраслевые решения». Ведутся работы над установкой с нормами 130 нм, которые использовались в производстве чипов Intel и AMD на рубеже 2000-х годов, таких как Pentium 4 и Athlon XP.