Клиенты ASML начали эксплуатацию 10 сканеров High-NA EUV для чипов менее 2 нм
Компании, использующие технологии ASML, уже задействовали 10 литографических сканеров High-NA EUV, что позволяет им производить чипы с техпроцессом менее 2 нм. Среди клиентов — Intel, Samsung и SK hynix.
На Тайване, в ходе конференции Semicon Taiwan 2026, старший вице-президент ASML Грит Стормс сообщила о том, что десять литографических систем High-NA EUV уже активно используются четырьмя клиентами компании. Каждая такая система стоит около 400 миллионов долларов.
Среди пользователей этого оборудования можно выделить Intel, которая уже начала применять High-NA EUV для производства процессоров семейства Panther Lake по технологии Intel 18A. Также компании Samsung и SK hynix проявляют интерес к данным сканерам для выпуска памяти и уже располагают по одному экземпляру системы ASML TwinScan EXE:5200B.
Стормс отметила, что оборудование ASML уже участвовало в обработке 1,35 миллиона кремниевых пластин, и одна система способна обрабатывать до 135 пластин в час. В будущем производительность может увеличиться до 180-210 пластин в час с использованием более современных моделей.
Несмотря на то, что TSMC приобрела несколько сканеров High-NA EUV, компания намерена использовать их лишь для лабораторных исследований. Из-за масштабов её бизнеса внедрение этого оборудования в крупномасштабное производство потребует значительных инвестиций, на что TSMC пока не готова.
По материалам: 3dnews.ru
