Китайским разработчикам EUV-оборудования потребуется 15 лет для достижения уровня ASML
Специалисты компании Zeiss Group считают, что китайские производители не смогут освоить технологии EUV-литографии как минимум в течение 15 лет. Это мнение поддерживается оценками аналитиков UBS.
Поставщик оптических компонентов для компании ASML, немецкая Zeiss Group, выразил мнение о том, что китайским разработчикам EUV-оборудования потребуется около 15 лет для достижения необходимого уровня. Директор полупроводникового бизнеса Zeiss Group, Франк Ромунд, в интервью отметил, что это предположение выглядит разумным, но оценить прогресс китайских разработчиков довольно сложно.
Технология EUV, подразумевающая использование сверхжесткого ультрафиолетового излучения для производства чипов 7-нм и более совершенных, не поставляется в Китай из-за действующих экспортных ограничений со стороны США и Нидерландов. Для преодоления этого технологического барьера китайским производителям необходимо разработать собственное оборудование. На сегодняшний день ASML является единственным в мире производителем литографических сканеров, работающих с EUV, а Zeiss Group обеспечивает её оптические компоненты.
В то время как оборудование предыдущего поколения DUV поставляется в Китай практически без ограничений, на самые современные модели требуется получать экспортные лицензии. Ромунд также отметил, что ужесточение запретов на поставки DUV-оборудования в Китай может негативно сказаться на бизнесе европейских производителей, но одновременно стимулировать усилия Китая по импортозамещению. По словам представителя Zeiss Group, китайская промышленность уже несколько десятилетий работает над созданием собственного оборудования, что не является неожиданностью.
По материалам: 3dnews.ru
