Китай не сможет освоить технологии EUV-литографии до 2040 года, отставание составляет 15 лет

С 2019 года нидерландская компания ASML не имеет права поставлять в Китай оборудование EUV, необходимое для производства современных чипов. В результате, с тех пор не было осуществлено ни одной поставки литографических сканеров, которые обеспечивают выпуск чипов с техпроцессом 7 нм и более.

По оценкам аналитиков UBS, китайские производители оборудования для чипов находятся на уровне, аналогичном тому, который был у ASML в 2004 году. Несмотря на активные разработки и патенты, китайские компании, по мнению UBS, не смогут самостоятельно освоить технологии EUV до конца следующего десятилетия. Даже если им удастся наладить производство, оно вряд ли будет востребовано за пределами Китая из-за технологического отставания и возможных регуляторных ограничений.

В то же время китайские компании способны освоить массовый выпуск DUV-литографического оборудования в ближайшие два-три года. Сообщается, что одна из китайских фирм уже начала производство таких систем. В этом году планируется выпустить пять DUV-литографов, а в следующем их количество может увеличиться до двадцати. По данным Reuters, китайские разработчики собрали прототип системы EUV в начале прошлого года, однако на данный момент он не позволяет производить чипы, так как служит лишь для генерации лазерного излучения нужной мощности.