Китай накапливает литографы ASML для массового производства 7-нм ИИ-ускорителей

К началу 2026 года китайские производители чипов собрали около 343 иммерсионных литографических систем ASML, работающих в глубоком ультрафиолете (DUV). Хотя такие установки не могут сравниться с более современными EUV-системами, они подходят для производства 7-нм логических чипов и памяти для ИИ-ускорителей. Часть из приобретённых литографов может быть адаптирована для более продвинутых производственных процессов, что способствует развитию полупроводниковой отрасли Китая в условиях действующих экспортных ограничений.

Согласно докладу Центра технологий и государственного управления (CTS), в 2024 и 2025 годах китайские предприятия приобрели 90 и 89 литографов ASML Twinscan NXT:1980i соответственно, потратив более $13 миллиардов. В то время как Китай не имеет доступа к EUV-литографам, поставки некоторых моделей DUV продолжаются. В сентябре 2023 года Нидерланды ввели лицензирование для экспорта систем NXT:2000i и более современных, а в следующем году эти ограничения коснулись и NXT:1970i и NXT:1980i. Однако в отдельных случаях возможны одобрения на поставки последних.

Авторы доклада отмечают, что это создает возможность для китайских производителей не только использовать литографы на приобретённых предприятиях, но и перемещать их на другие линии или перепрофилировать для более современных техпроцессов. Например, модель NXT:1980i позволяет производить 7-нм логические чипы и память HBM2e, необходимые для ИИ-ускорителей, таких как Huawei Ascend. Однако наличие литографов не является единственным условием для успешного производства — необходимы также другие технологические операции и оборудование, чтобы обеспечить достаточный выход готовой продукции.

Согласно отчетам ASML, в 2024 году на Китай приходилось 41% чистых продаж систем компании, в 2025 году — 33%. В первом квартале 2026 года этот показатель снизился до 19%, а во втором — до 14%. По наиболее оптимистичному сценарию, продолжение импорта литографов могло бы привести к созданию мощностей для ежегодного производства ИИ-чипов с общей производительностью до 434 миллионов H100-эквивалентов к 2035 году. Если же импорт будет прекращён с 2027 года, этот потенциал снизится до 153 миллионов.

Авторы доклада, Николас Браун и Саиф Хан, рекомендуют запретить дальнейшие поставки всех иммерсионных DUV-систем в Китай и ограничить обслуживание имеющегося оборудования на передовых производствах. При этом они не выступают за полный запрет на всю DUV-литографию, сохраняя более старые установки для зрелых техпроцессов. Новый запрет пока не принят, и накопленные ресурсы позволяют Китаю продолжать развивать свои возможности в области производства чипов.