Дженсен Хуанг: Китай может освоить литографию к 2030 году
Основатель Nvidia Дженсен Хуанг считает, что Китай сможет разработать передовое литографическое оборудование к 2030 году. Несмотря на запреты на импорт, он уверен в способности страны к саморазвитию в этой области.
Дженсен Хуанг, основатель компании Nvidia, выразил уверенность, что к 2030 году Китай сможет освоить технологии передовой литографии. По его мнению, это достижение возможно в ближайшие годы, учитывая способности страны в массовом производстве.
С момента введения запрета на поставки литографического оборудования ASML с использованием сверхжёсткого ультрафиолетового излучения (EUV) в 2019 году, Китаю не удалось получить такие системы через официальные каналы. Хуанг отметил, что даже при отсутствии импортного оборудования, китайские специалисты смогут разработать собственные решения.
Тем не менее, текущие возможности китайского производителя SMEE в области литографических систем ограничены. На данный момент они могут предложить лишь сканеры для «сухой» литографии с длиной волны 193 нм, что позволяет производить чипы на уровне 90 нм. Хотя есть слухи о разработке сканера для погружной литографии, серийное производство такого оборудования пока не подтверждено.
Даже если новое оборудование поступит на рынок в ближайшие годы, массовое производство с его использованием не начнётся раньше 2028 или 2029 года. Сравнение с современными системами ASML показывает, что китайские аналоги не достигнут необходимого уровня к 2030 году, особенно в области EUV-литографии, для которой пока отсутствуют работоспособные прототипы.
По материалам: 3dnews.ru
